Tantal har en rekke utmerkede egenskaper som høyt smeltepunkt, lavt damptrykk, god kaldarbeidsytelse, høy kjemisk stabilitet, sterk motstand mot flytende metallkorrosjon og stor dielektrisk konstant for overflateoksidfilmen.
Derfor har tantal viktige anvendelser innen høyteknologiske felt som elektronikk, metallurgi, stål, kjemisk industri, hardmetall, atomenergi, superledende teknologi, bilelektronikk, romfart, medisinsk helse og vitenskapelig forskning.
50%-70% av verdens tantal brukes til å lage tantalkondensatorer i form av tantalpulver og tantaltråd av kondensatorkvalitet. Fordi overflaten av tantal kan danne en tett og stabil amorf oksidfilm med høy dielektrisk styrke, er det enkelt å nøyaktig og praktisk kontrollere anodiseringsprosessen til kondensatoren. Samtidig kan den sintrede tantalpulverblokken få et stort overflateareal i et lite volum. Derfor har tantalkondensatorer høy kapasitans, liten lekkasjestrøm, lav ekvivalent seriemotstand, gode høy- og lavtemperaturegenskaper, lang levetid og utmerket generell ytelse. Andre kondensatorer er vanskelige å matche.
